NLMのチームメンバー。
NLM Photonicsは、演算処理や通信用の最先端の電気光学変調技術を開発しています。当社の技術をシリコンフォトニクスやその他のフォトニック集積回路 (PIC) プラットフォームで活用すると、帯域幅が広くなり、電力消費量が削減されるうえ、処理が中断されるのを最低限に押さえることができます。
ワシントン大学で25年以上に渡って行われている調査に基づき、当社の技術を利用して、人工有機材料の使用、特殊処理の実施、チップの設計を行うことで、電圧が下がり、電力消費量が削減され、高い帯域幅で電気光学変調が可能になり、データ通信、量子情報科学、センシングなど幅広い用途で使用できます。NLMの技術は、大規模なAIデータセンターでも小型衛星でも、電力の制約内で厳しい性能要件を満たすのに役立ちます。
業界の変遷とNLMの創業ストーリー
Larry Dalton教授 (南カリフォルニア大学) と大学院生のCheng Zhang氏が、ニオブ酸リチウムのポッケルス効果が30 pm/Vを超える初の第二世代有機電気光学 (OEO) 材料を開発する。2001年に『
サイエンス』でこのデバイスが発表される。
ワシントン大学のDalton教授とAlex Jen教授の調査グループが、300 pm/Vを超えるポッケルス効果を持つ最初のOEO材料を実証する。
ワシントン大学のDalton/Bruce Robinson教授の調査グループに在席するLewis Johnson博士、Delwin Elder博士、Scott Hammond博士、Stephanie Benight博士が、モノリシック有機ガラスとバイナリ有機ガラス、マルチスケールモデリング、シリコン有機ハイブリッド (SOH) デバイスを組み合わせた場合の調査を共同で行う。
第3世代OEO技術が最盛期を迎え、ハイブリッドデバイスで活用される。SOHとプラズモン有機ハイブリッド (POH) 技術を使用して、超高速 (～100 GHz) ハイブリッド有機変調器の最初の実用実証を行う。実証の材料はDelwin Elder博士が開発し、Stephanie Benight博士とPhil Sullivan博士などが作成する。
Huajun Xu博士、Delwin Elder博士、ワシントン大学の同僚が、熱安定性の高いHLDバイナリ発色団熱硬化型有機ガラス材料を開発する。このガラス材料は、クラス最高の熱安定性を誇るJRD1の記録性能を備える。HLDが、重要なパフォーマンスメトリック (安定性、ポッケルス効果、光損失、処理可能性) をすべて達成できる第3世代材料を実証する。
Lewis Johnson博士、Gerard Zytnicki氏、Paul Nye氏、Delwin Elder博士、Bruce Robinson教授 (顧問) が、Nonlinear Materials Corporation (後に社名をNLM Photonicsに改名) を創設する。
ワシントン大学/NLMチームが、分子レベルのパフォーマンスと600 pm/Vのポッケルス効果の両方で記録を打ち立てる。NLMが、初期段階でエンジェル投資家から資金投資を得て、材料の商業生産を開始する。
材料化学からさらに発展させて、技術と変調器の設計を行うために、社名をNLM Photonicsに公式に改名する。
電子と光の間にブリッジ回路を形成する
NLMのハイブリッド有機EO技術を活用することで、効果的に電子と光の間にブリッジ回路を形成し、シリコンフォトニクスや他のプラットフォームに組み込み、変調効率を大幅に改善できます。NLMの材料とデバイスは、厳密な研究開発が行われ、科学的に裏付けされ、50回を超える査読を行って発表されています。
NLMの技術は、データセンター、量子コンピューティング、ミリ波通信、機械学習、AI、その他の新興技術の電力消費量を削減します。NLMは、半導体業界、コンピューティング業界、電気通信業界のパートナー会社の協力を得て、当社の能力を絶えず向上させ、フォトニック集積の未来を推進します。
所在地
アメリカ本社：
NLM Photonics
4000 Mason Road, Suite 300
Seattle WA 98195, USA
ヨーロッパ本社：
NLM Europe
38 Rue de Berri
75008 Paris, France
